描述：

化學(xué)蝕刻（photochemical etching），指通過(guò)曝光制版、顯影后，將要蝕刻區(qū)域的保護(hù)膜去除，在蝕刻時(shí)接觸化學(xué)溶液，達(dá)到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果。

①. 曝光法（適用于精密蝕刻）：工程根據(jù)圖形開(kāi)出備料尺寸-材料準(zhǔn)備-材料清洗-烘干→貼膜或涂布→烘干→曝光→ 顯影→烘干-蝕刻→去膜→出料

②. 網(wǎng)印法：開(kāi)料→清洗板材(不銹鋼其它金屬材料)→絲網(wǎng)印→蝕刻→脫膜→出料

本機(jī)為兩窗全壓力表蝕刻機(jī)有效蝕刻區(qū)2米，蝕刻區(qū)每根噴淋管單獨(dú)壓力表控制，適用于精密蝕刻生產(chǎn)。

產(chǎn)品效果圖